一、CVD真空管式爐概述

真空管式爐主要應用于高等院校、科研院所、工礦企業等實驗和小批量生產之用。主要用于粉體、電子、陶瓷等其它產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等

二、CVD真空管式爐特點

1、爐膛材料采用進口陶瓷纖維，呈現溫場均衡、表面溫度低、升溫速率快、節能等優點；

2、電熱元件采用進口高電阻合金絲，表面負荷高，發熱速度快；

3、爐體兩端采用不銹鋼密封法蘭，耐高溫、耐腐蝕；

4、保護管采用高純石英管 ，氣管采用密封快接插頭，安裝方便；

5、爐體采用雙層空氣隔熱技術，配有自動冷卻風扇，降低爐體外殼溫度；

6、控制系統采用進口40段程序控溫，控溫精度±1℃，移相觸發、可控硅控制；

三、CVD真空管式爐參數

注：可根據用戶要求另行設計制造，更多規格及參數和詳細技術方案請來電咨詢！